年花两万亿买晶片 华自主研发困难重重

admin 1个月前 (10-20) 快讯 19 0

【明报专讯】晶片产业历久由西欧日韩控制,中国内地每年单是入口晶片就消耗跨越3000亿美元(约2.34万亿港元)外汇,逾越中国内地每年入口石油的开支。去年中国所需的半导体产物,仅16%由本土生产。不外,相关产业的研发难以一蹴而就。半导体制造是资本密集型产业,研发周期长、资金投入极大,业界每年投入跨越15%的年度收入作研发。每一代最先进的制造手艺寿命只有2至4年,然后又被更先进的手艺取代。半导体制造装备供应商需与晶片代工商、晶片设计师慎密互助,以保持制造手艺不断发展的措施。

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光刻机装传感器一拆ASML便知

制造晶片主要依赖光刻机。市场主流的光刻机供应商由荷兰ASML、日本Nikon和Canon三分天下,但最先进的极紫外光源(EUV)光刻机手艺由ASML垄断。现在中国内地规模最大的晶片代工商中芯国际(0981)接纳的深紫外光源(DUV)光刻机已相对落伍,向ASML购置最先进的EUV光刻机却受美国所限。业界人士能否实验拆解ASML的手艺?据称,光刻机有跨越10万个组件,且安装了大量传感器,只要实验拆解它,就会触动传感器向ASML发出警报。

中芯国际现在以14nm制程工艺生产晶片,较台积电、三星和英特尔落伍至少两代。制程数字愈细,所需的手艺水平愈高,晶片效能愈强,且耗能愈少。早前内地一站式IP和定制晶片企业芯动科技称,全球首个基于中芯FinFET「 N+1工艺」的晶片流片和测试,所有IP(半导体硅智财)全自主国产,功效一次测试通过。所谓N+1工艺,是指中芯在第一代14nm量产后的第二代先进工艺的代号。凭据中芯国际提供的信息显示,N+1工艺和14nm工艺相比,性能提升20%,功耗降低57%,逻辑面积小63%,SoC面积削减55%。从逻辑面积缩小的数据来看,与7nm工艺相近,并争取本年底小批量试产。

[企业地球村]


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